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工作站（CS350 CS16X）.png)
CS350M電化學(xué)工作站
產(chǎn)品介紹
CS電化學(xué)工作站采用全浮地式設(shè)計(jì)，具有的穩(wěn)定性和精確度 有硬件和功能完善的軟件，為涉及能源、材料、生命科學(xué)、環(huán)保等領(lǐng)域的科技工作者提供youxiu的科研平臺。
應(yīng)用
（1）能源材料（鋰離子電池、太陽能電池、燃料動力電池和超級電容器等）、功能材料以及傳感器的性能研究；
（2）電化學(xué)分析研究；
● 內(nèi)置FRA頻響分析儀，頻率范圍 10μHz ~1MHz
（3）電合成、電沉積（電鍍）、陽極氧化、電解等反應(yīng)機(jī)理研究；
(4）金屬材料的腐蝕行為研究與耐蝕性評價(jià)；
（5）緩蝕劑、水質(zhì)穩(wěn)定劑、涂層以及陰極保護(hù)效率的快速評價(jià)。
硬件特點(diǎn)
● 雙通道相關(guān)分析器和雙通道g速16bit /g精度24bit AD轉(zhuǎn)換器
● 帶寬輸入阻抗的放大器
● 內(nèi)置FPGA DDS信號合成器
● 功率恒電位儀/恒電流儀/零電阻電流計(jì)
● 電壓控制范圍：±10V，槽壓為±21V
● 電流控制范圍：±2.0A
● 電位分辨率：10μV，電流分辨率：1pA（可延伸至100fA）
軟件特點(diǎn)
① 數(shù)據(jù)分析
伏安曲線的平滑、積分和微分運(yùn)算，計(jì)算各氧化還原峰的峰電流、峰電位和峰面積等；
極化曲線的三參數(shù)或四參數(shù)動力學(xué)解析，計(jì)算Tafel斜率ba，bc，腐蝕電流密度icorr，極限擴(kuò)散電流、極化電阻Rp和腐蝕速率等，還可由電化學(xué)噪聲譜計(jì)算功率譜密度、噪聲電阻Rn和譜噪聲電阻Rsn(f)。
② 實(shí)時(shí)存儲
CS Studio實(shí)時(shí)存儲測量數(shù)據(jù)，即使因斷電導(dǎo)致測試中斷，中斷之前的數(shù)據(jù)也會自動保存。
③ 定時(shí)測量
CS Studio測試軟件具有定時(shí)測量功能， 對于某些需要研究體系隨時(shí)間變化特征時(shí)，可提前設(shè)好測試參數(shù)與間隔時(shí)間，讓儀器在無人值守下自動定時(shí)測量，為實(shí)驗(yàn)提供方便。
技術(shù)優(yōu)勢
①極化曲線
具有線性極化和Tafel極化曲線測量功能，用戶可設(shè)定循環(huán)極化曲線的陽極回掃電流（鈍化膜擊穿電流），來確定材料的點(diǎn)蝕電位和保護(hù)電位，評價(jià)晶間腐蝕敏感性。軟件采用非線性擬合算法解析極化曲線，可用于材料耐蝕性和緩蝕劑性能的快速評價(jià)。
鈦基非晶態(tài)合金和不銹鋼在3%NaCl溶液中的極化曲線
② 伏安分析
能完成線性掃描伏安（LSV）、循環(huán)伏安（CV）等電分析方法，集成峰面積、峰電流計(jì)算和標(biāo)準(zhǔn)曲線分析功能。
聚吡咯超級電容器 在0.5 mol/L H2SO4溶液中的CV曲線 鉑電極在 K4[Fe(CN)6]+ KCl溶液中的CV 曲線
③ 電化學(xué)噪聲
采用g阻跟隨器和零阻電流計(jì)測量腐蝕體系自發(fā)的電位與 電流波動，可用于點(diǎn)蝕、電偶腐蝕、縫隙腐蝕和應(yīng)力腐蝕開裂 等局部腐蝕研究。通過噪聲譜分析，可評估亞穩(wěn)態(tài)蝕點(diǎn)或裂紋的誘導(dǎo)、生長和死亡過程?；谠肼曤娮韬忘c(diǎn)蝕指數(shù)計(jì)算，也可用于局部腐蝕監(jiān)測。
低碳鋼在0.05mol/L Cl-+0.1mol/L NaHCO3溶液中的電化學(xué)噪聲
④全浮地模式
CS系列電化學(xué)工作站采用全浮地式工作電極，可用于工作電極本身接地體系的電化學(xué)研究，如用于高壓釜電化學(xué)測試（釜體接地），大地中金屬構(gòu)件（橋梁、混凝土鋼筋）的在線腐蝕研究等。
⑤正反饋IR補(bǔ)償
啟動IR補(bǔ)償后，電化學(xué)工作站會增加一個(gè)額外模擬反饋路徑，通過測量電解池電流，啟用正反饋補(bǔ)償，硬件電路增加反饋信號，自動對Rs上的壓降進(jìn)行補(bǔ)償。
⑥自定義方法
支持用戶自定義組合測量，用戶可以設(shè)定定時(shí)循環(huán)進(jìn)行某一測試方法或多種方法的組合測試，用于無人值守下的定時(shí)自動測量；
提供API通用接口函數(shù)和開發(fā)實(shí)例，方便用戶二次開發(fā)和自定義測試方法；
提供用戶自定義腳本編寫范例，用于實(shí)現(xiàn)您獨(dú)特的電化學(xué)實(shí)驗(yàn)技術(shù)。
技術(shù)指標(biāo)
硬件參數(shù)指標(biāo)
恒電位控制范圍：±10V
恒電流控制范圍：±2.0A
電位控制精度：0.1%×滿量程讀數(shù)±1mV
電流控制精度：0.1%×滿量程讀數(shù)
電位靈敏度：10μV(>100Hz), 3μV(<10Hz)
電流靈敏度：1pA
電位上升時(shí)間：﹤1μS(<10mA),<10μS(<2A)
電流量程：2nA～2A, 共10檔
參比電極輸入阻抗：1012Ω||20pF
z大輸出電流：2.0A
槽壓輸出：±21V
電流掃描增量：1mA @1A/mS
CV和LSV掃描速度：0.001mV～10000V/s
電位掃描電位增量：0.076mV @1V/mS
CA和CC脈沖寬度：0.0001～65000s
DPV和NPV脈沖寬度：0.0001～1000s
SWV頻率：0.001～100KHz
CV的z小電位增量：0.020mV
AD數(shù)據(jù)采集：16bit@3.6MHz，20bit @1KHz
電流與電位量程：自動設(shè)置
DA分辨率：16bit，建立時(shí)間：1μS
低通濾波器 ：8段可編程
通訊接口：USB2.0、RJ45網(wǎng)口
儀器重量：7.6Kg
外形尺寸（cm）：36.4(W)*32.0(D)*13.8(H)
配置
1）儀器主機(jī)1臺
2) CS Studio測試與分析軟件1套
3）模擬電解池1個(gè)
4）電源線/USB數(shù)據(jù)線各1條
5）電極電纜線1條
6）電腦（選配*）
功能方法
CS單通道系列不同型號功能方法比較
注：*氫擴(kuò)散及旋轉(zhuǎn)盤環(huán)電極測試需配置CS1002恒電位/恒電流儀或采用CS2350H雙恒電位儀。
功能方法
CS150M
CS300M
CS310M
CS350M
穩(wěn)態(tài)極化
開路電位（OCP）
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恒電位極化（i-t曲線）
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恒電流極化
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動電位掃描（Tafel曲線）
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動電流掃描（DGP）
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電位掃描-階躍
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暫態(tài)極化
任意恒電位階梯波
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任意恒電流階梯波
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恒電位階躍（VSTEP）
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恒電流階躍（ISTEP）
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計(jì)時(shí)分析
計(jì)時(shí)電位法（CP）
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計(jì)時(shí)電流法（CA）
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計(jì)時(shí)電量法（CC）
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伏安分析
線性掃描伏安（LSV）
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線性循環(huán)伏安（CV）
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階梯循環(huán)伏安（SCV）
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方波伏安（SWV）
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差分脈沖伏安（DPV）
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常規(guī)脈沖伏安（NPV）
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差分常規(guī)脈沖伏安（DNPV）
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交流伏安（ACV）
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二次諧波交流伏安（SHACV）
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傅里葉變換交流伏安（FTACV）
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電流檢測
差分脈沖電流檢測（DPA）
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雙差分脈沖電流檢測（DDPA）
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三脈沖電流檢測（TPA）
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積分脈沖電流檢測（IPAD）
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溶出伏安
電位溶出分析（PSA）
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線性掃描溶出伏安（LSSV）
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階梯溶出伏安（SCSV）
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方波溶出伏安（SWSV）
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差分脈沖溶出伏安（DPSV）
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常規(guī)脈沖溶出伏安（NPSV）
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差分常規(guī)脈沖溶出伏安（DNPSV）
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交流阻抗
阻抗-頻率掃描
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阻抗-時(shí)間掃描
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阻抗-電位掃描（Mott-Schottky 曲線）
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恒電流阻抗測試
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充放電測試
電池充放電
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恒電流充放電（GCD）
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恒電位充放電
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恒電位間歇滴定技術(shù)（PITT）
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恒電流間歇滴定技術(shù)（GITT）
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雙恒測量
氫擴(kuò)散測試（HDT）
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盤環(huán)電極測試
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擴(kuò)展測量
電化學(xué)噪聲（EN）
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電偶腐蝕測量（ZRA）
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電化學(xué)溶解/沉積
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控制電位電解庫倫法（BE）
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動電位再活化法（EPR）
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溶液電阻測量
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循環(huán)極化曲線（CPP）
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*產(chǎn)品3年質(zhì)保。
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